Text
HDP-CVD STI oxide process with in situ postdeposition laterally enhanced sputter etchback for the reduction of pattern-dependent film topography in deep submicron technologies
Tidak Tersedia Deskripsi
Barcode | Tipe Koleksi | Nomor Panggil | Lokasi | Status | |
---|---|---|---|---|---|
art22213 | null | Artikel | Gdg9-Lt3 | Tersedia namun tidak untuk dipinjamkan - No Loan |
Tidak tersedia versi lain