Behavior of particles reflected by turbo molecular pump in plasma etching apparatus | PERPUSTAKAAN UNIVERSITAS KATOLIK PARAHYANGAN

Pencarian berdasarkan :

Pencarian terakhir:

Text

Behavior of particles reflected by turbo molecular pump in plasma etching apparatus

Kobayashi, Hiroyuki - Nama Orang; Maeda, Kenji - Nama Orang; Izawa, Masaru - Nama Orang;

Tidak Tersedia Deskripsi

Ketersediaan

Barcode		Tipe Koleksi	Nomor Panggil	Lokasi	Status
art47288	null	Artikel		Gdg9-Lt3	Tersedia namun tidak untuk dipinjamkan - No Loan

Informasi Detail

Judul Seri: IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING;Vol.22 No.4 November 2009
No. Panggil: -
Penerbit: : .,
Deskripsi Fisik: p.462-467
Bahasa: English
ISBN/ISSN: -
Klasifikasi: -
Tipe Isi: -
Tipe Media: -
Tipe Pembawa: -
Edisi: -
Subjek: -
Info Detail Spesifik: -
Pernyataan Tanggungjawab: Hiroyuki Kobayashi, Kenji Maeda, Masaru Izawa

Versi lain/terkait

Tidak tersedia versi lain

Lampiran Berkas

Tidak Ada Data

Komentar

Anda harus masuk sebelum memberikan komentar