Spike annealing as second rapid thermal annealing to prevent pure nickel silicide from decomposing on a gate | PERPUSTAKAAN UNIVERSITAS KATOLIK PARAHYANGAN

Pencarian berdasarkan :

Pencarian terakhir:

Text

Spike annealing as second rapid thermal annealing to prevent pure nickel silicide from decomposing on a gate

Futase, Takuya - Nama Orang; Hashikawa, Naoto - Nama Orang; Kamino, Takeshi - Nama Orang; Fujiwara, Tetsuo - Nama Orang; Inaba, Yutaka - Nama Orang; Suzuki, Tadahi - Nama Orang; Yamamoto, Hirohiko - Nama Orang;

Tidak Tersedia Deskripsi

Ketersediaan

Barcode		Tipe Koleksi	Nomor Panggil	Lokasi	Status
art47290	null	Artikel		Gdg9-Lt3	Tersedia namun tidak untuk dipinjamkan - No Loan

Informasi Detail

Judul Seri: IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING;Vol.22 No.4 November 2009
No. Panggil: -
Penerbit: : .,
Deskripsi Fisik: p.475-481
Bahasa: English
ISBN/ISSN: -
Klasifikasi: -
Tipe Isi: -
Tipe Media: -
Tipe Pembawa: -
Edisi: -
Subjek: -
Info Detail Spesifik: -
Pernyataan Tanggungjawab: Takuya Futase...[et al.]

Versi lain/terkait

Tidak tersedia versi lain

Lampiran Berkas

Tidak Ada Data

Komentar

Anda harus masuk sebelum memberikan komentar