New evaluation method for cross-contamination of ion implantation by using grazing angle incidence PIXE in photo-resist | PERPUSTAKAAN UNIVERSITAS KATOLIK PARAHYANGAN

Pencarian berdasarkan :

Pencarian terakhir:

Text

New evaluation method for cross-contamination of ion implantation by using grazing angle incidence PIXE in photo-resist

Shibata, Satoshi - Nama Orang; Kamiyanagi, Hisako - Nama Orang; Okano, Tetsuyuki - Nama Orang; Kitamura, Akira - Nama Orang;

Tidak Tersedia Deskripsi

Ketersediaan

Barcode		Tipe Koleksi	Nomor Panggil	Lokasi	Status
art56157	null	Artikel		Gdg9-Lt3	Tersedia namun tidak untuk dipinjamkan - No Loan

Informasi Detail

Judul Seri: IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING;Vol.23 No.3 August 2010
No. Panggil: -
Penerbit: : .,
Deskripsi Fisik: p.423-428
Bahasa: English
ISBN/ISSN: -
Klasifikasi: -
Tipe Isi: -
Tipe Media: -
Tipe Pembawa: -
Edisi: -
Subjek: -
Info Detail Spesifik: -
Pernyataan Tanggungjawab: Satoshi Shibata...[et al.]

Versi lain/terkait

Tidak tersedia versi lain

Lampiran Berkas

Tidak Ada Data

Komentar

Anda harus masuk sebelum memberikan komentar