TiCl4 Soak on NiSi : Selective Formation of Pure Sub-Nanometer NiTi to Reduce Contact Resistance | PERPUSTAKAAN UNIVERSITAS KATOLIK PARAHYANGAN

Pencarian berdasarkan :

Pencarian terakhir:

Text

TiCl4 Soak on NiSi : Selective Formation of Pure Sub-Nanometer NiTi to Reduce Contact Resistance

Futase, Takuya - Nama Orang; Hashikawa, Naoto - Nama Orang; Yamamoto, Hirohiko - Nama Orang; Tanimoto, Hisanori - Nama Orang;

Tidak Tersedia Deskripsi

Ketersediaan

Barcode		Tipe Koleksi	Nomor Panggil	Lokasi	Status
art62403	null	Artikel		Gdg9-Lt3	Tersedia namun tidak untuk dipinjamkan - No Loan

Informasi Detail

Judul Seri: IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING;Vol.24 No.2 May 2011
No. Panggil: -
Penerbit: : .,
Deskripsi Fisik: p.325-332
Bahasa: English
ISBN/ISSN: -
Klasifikasi: -
Tipe Isi: -
Tipe Media: -
Tipe Pembawa: -
Edisi: -
Subjek: -
Info Detail Spesifik: -
Pernyataan Tanggungjawab: Takuya Futase...[et al.]

Versi lain/terkait

Tidak tersedia versi lain

Lampiran Berkas

Tidak Ada Data

Komentar

Anda harus masuk sebelum memberikan komentar