Computer File
Pengaruh TiO2, ZrO2, dan HfO2 terhadap SiO2
Skripsi ini menjelaskan mengenai pengaruh TiO2, ZrO2, dan HfO2 terhadap SiO2. Penulis ingin mengetahui peran oksida logam terhadap jaringan SiO2, apakah sebagai
pengubah jaringan (modifier), pembentuk jaringan (former), atau intermediate. Penulis mengolah data dengan melakukan proses fitting berdasarkan data 29Si NMR yang
diperoleh dari Philips N. Gunawidjaja. Penulis juga melakukan studi pustaka guna mendapatkan informasi-informasi tambahan mengenai pengaruh TiO2, ZrO2, dan HfO2 terhadap SiO2. Data tersebut kemudian dianalisis untuk mendapatkan hasil berdasarkan
proses fitting dan studi pustaka. Disimpulkan bahwa pengaruh logam oksida sangat bergantung pada konsentrasi penambahannya dan pemanasan termal pada temperatur
tertentu.
Kata-kata kunci: TiO2, ZrO2, HfO2, SiO2
Barcode | Tipe Koleksi | Nomor Panggil | Lokasi | Status | |
---|---|---|---|---|---|
skp27154 | DIG - ftis | Skripsi | FIS RAH p/13 | Perpustakaan | Tersedia namun tidak untuk dipinjamkan - Missing |
Tidak tersedia versi lain