Kinematic Optimization for Chemical Mechanical Polishing Based on Statistical Analysis of Particle Trajectories | PERPUSTAKAAN UNIVERSITAS KATOLIK PARAHYANGAN

Pencarian berdasarkan :

Pencarian terakhir:

Text

Kinematic Optimization for Chemical Mechanical Polishing Based on Statistical Analysis of Particle Trajectories

Zhao, Dewen - Nama Orang; Wang, Tongqing - Nama Orang; He, Yongyong - Nama Orang; Lu, Xinchun - Nama Orang;

Tidak Tersedia Deskripsi

Ketersediaan

Barcode		Tipe Koleksi	Nomor Panggil	Lokasi	Status
art87992	null	Artikel		Gdg9-Lt3	Tersedia namun tidak untuk dipinjamkan - No Loan

Informasi Detail

Judul Seri: IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING; Vol.26 No.4 November 2013
No. Panggil: -
Penerbit: : .,
Deskripsi Fisik: p.556-565
Bahasa: English
ISBN/ISSN: -
Klasifikasi: -
Tipe Isi: -
Tipe Media: -
Tipe Pembawa: -
Edisi: -
Subjek: -
Info Detail Spesifik: -
Pernyataan Tanggungjawab: Dewen Zhao, Tongqing Wang, Yongyong He, Xinchun Lu

Versi lain/terkait

Tidak tersedia versi lain

Lampiran Berkas

Tidak Ada Data

Komentar

Anda harus masuk sebelum memberikan komentar