Equipment Utilization Enhancement in Photolithography Area Through a Dynamic System Control Using Multi-Fidelity Simulation Optimization With Big Data Technique | PERPUSTAKAAN UNIVERSITAS KATOLIK PARAHYANGAN

Pencarian berdasarkan :

Pencarian terakhir:

Text

Equipment Utilization Enhancement in Photolithography Area Through a Dynamic System Control Using Multi-Fidelity Simulation Optimization With Big Data Technique

Liam Y. Hsieh - Nama Orang; Chun-Hung Chen - Nama Orang; Edward Huang - Nama Orang;

Tidak Tersedia Deskripsi

Ketersediaan

Barcode		Tipe Koleksi	Nomor Panggil	Lokasi	Status
art119238	null	Artikel		Gdg9-Lt3	Tersedia namun tidak untuk dipinjamkan - No Loan

Informasi Detail

Judul Seri: IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING; Vol.30 No.2 May 2017
No. Panggil: -
Penerbit: : .,
Deskripsi Fisik: p. 166-175
Bahasa: English
ISBN/ISSN: -
Klasifikasi: -
Tipe Isi: -
Tipe Media: -
Tipe Pembawa: -
Edisi: -
Subjek: BIG DATA
PHOTOLITHOGRAPHIC PROCESS
MULTI-FIDELITY SIMULATION OPTIMIZATION
INDUSTRY 4.0
Info Detail Spesifik: -
Pernyataan Tanggungjawab: Liam Y. Hsieh, Edward Huang, Chun-Hung Chen

Versi lain/terkait

Tidak tersedia versi lain

Lampiran Berkas

Tidak Ada Data

Komentar

Anda harus masuk sebelum memberikan komentar