Development of the Virtual Metrology for the Nitride Thickness in Multi-Layer Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Using Plasma-Information Variables | PERPUSTAKAAN UNIVERSITAS KATOLIK PARAHYANGAN

Pencarian berdasarkan :

Pencarian terakhir:

Text

Development of the Virtual Metrology for the Nitride Thickness in Multi-Layer Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Using Plasma-Information Variables

Hyun-Joon Roh - Nama Orang; Sangwon Ryu - Nama Orang; Yunchang Jang - Nama Orang; Nam-Kyun Kim - Nama Orang; Younggil Jin - Nama Orang; Gon-Ho Kim - Nama Orang; Seolhye Park - Nama Orang;

Tidak Tersedia Deskripsi

Ketersediaan

Barcode		Tipe Koleksi	Nomor Panggil	Lokasi	Status
art125740	null	Artikel		Gdg9-Lt3	Tersedia namun tidak untuk dipinjamkan - No Loan

Informasi Detail

Judul Seri: IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING; Vol.31 No.2 May 2018
No. Panggil: -
Penerbit: : .,
Deskripsi Fisik: p. 232-241
Bahasa: English
ISBN/ISSN: -
Klasifikasi: -
Tipe Isi: -
Tipe Media: -
Tipe Pembawa: -
Edisi: -
Subjek: PROCESS MONITORING
VIRTUAL METROLOGY
SEMICONDUCTOR PROCESS MODELING
PROCESS DRIFT
OPTICAL EMISSION SPECTROSCOPY
PLASMA CVD
PLASMA MATERIALS PROCESSING APPLICATIONS
PLASMA INFORMATION
REACTOR WALL CONDITION
Info Detail Spesifik: -
Pernyataan Tanggungjawab: Hyun-Joon Roh, Sangwon Ryu, Yunchang Jang, Nam-Kyun Kim, Younggil Jin, Seolhye Park, Gon-Ho Kim

Versi lain/terkait

Tidak tersedia versi lain

Lampiran Berkas

Tidak Ada Data

Komentar

Anda harus masuk sebelum memberikan komentar