KrF Photoresist Profile Modulation by NH3 Plasma Treatment for 28 nm SRAM | PERPUSTAKAAN UNIVERSITAS KATOLIK PARAHYANGAN

Pencarian berdasarkan :

Pencarian terakhir:

Text

KrF Photoresist Profile Modulation by NH3 Plasma Treatment for 28 nm SRAM

Run-Ling Li - Nama Orang; Jian Zhang - Nama Orang; Lin-Lin Wang - Nama Orang; Yu-Long Jiang - Nama Orang;

Tidak Tersedia Deskripsi

Ketersediaan

Barcode		Tipe Koleksi	Nomor Panggil	Lokasi	Status
art125745	null	Artikel		Gdg9-Lt3	Tersedia namun tidak untuk dipinjamkan - No Loan

Informasi Detail

Judul Seri: IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING; Vol.31 No.2 May 2018
No. Panggil: -
Penerbit: : .,
Deskripsi Fisik: p. 266-269
Bahasa: English
ISBN/ISSN: -
Klasifikasi: -
Tipe Isi: -
Tipe Media: -
Tipe Pembawa: -
Edisi: -
Subjek: SIGE
KRF
PHOTORESIST PROFILE MODULATION
NH3 PLASMA
Info Detail Spesifik: -
Pernyataan Tanggungjawab: Run-Ling Li, Jian Zhang, Lin-Lin Wang, Yu-Long Jiang

Versi lain/terkait

Tidak tersedia versi lain

Lampiran Berkas

Tidak Ada Data

Komentar

Anda harus masuk sebelum memberikan komentar