Removal of Surface Residual Stress in a Sapphire Substrate by Etching | PERPUSTAKAAN UNIVERSITAS KATOLIK PARAHYANGAN

Pencarian berdasarkan :

Pencarian terakhir:

Text

Removal of Surface Residual Stress in a Sapphire Substrate by Etching

Zhongwei Hu - Nama Orang; Mingjian Shao - Nama Orang; Lei Xiao - Nama Orang; Hsieh Pinhui - Nama Orang; Xipeng Xu - Nama Orang; Yiqing Yu - Nama Orang;

Tidak Tersedia Deskripsi

Ketersediaan

Barcode		Tipe Koleksi	Nomor Panggil	Lokasi	Status
art128166	null	Artikel		Gdg9-Lt3	Tersedia namun tidak untuk dipinjamkan - No Loan

Informasi Detail

Judul Seri: IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING; Vol.31 No.4 November 2018
No. Panggil: -
Penerbit: : .,
Deskripsi Fisik: p. 514-520
Bahasa: English
ISBN/ISSN: -
Klasifikasi: -
Tipe Isi: -
Tipe Media: -
Tipe Pembawa: -
Edisi: -
Subjek: ETCHING
SAPPHIRE
SURFACE-RESIDUAL STRESS
BOW
WARP
Info Detail Spesifik: -
Pernyataan Tanggungjawab: Zhongwei Hu, Mingjian Shao, Lei Xiao, Hsieh Pinhui, Xipeng Xu, Yiqing Yu

Versi lain/terkait

Tidak tersedia versi lain

Lampiran Berkas

Tidak Ada Data

Komentar

Anda harus masuk sebelum memberikan komentar