Text

Novel Volatile Film for the Protection of Organo-Silicate Glass Dielectric Materials

Tidak Tersedia Deskripsi

Ketersediaan

Informasi Detail

Judul Seri

IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING; Vol.32 No.4 November 2019

No. Panggil

-

Penerbit

: .,

Deskripsi Fisik

p. 438-443

Bahasa

English

ISBN/ISSN

-

Klasifikasi

-

Tipe Isi

-

Tipe Media

-

Tipe Pembawa

-

Edisi

-

Subjek

VOLATILE MATERIAL
THERMAL REMOVAL
PORE STUFFING
P4
PLUG MATERIAL
POROUS LOW-K MATERIAL
PLASMA INDUCED DAMAGE

Info Detail Spesifik

-

Pernyataan Tanggungjawab

M. Fujikawa, T. Yamaguchi, S. Nozawa, Y. Kikuchi, K. Maekawa, H. Kawasaki, R. Chanson, J.-F. de Marneffe

Versi lain/terkait

Lampiran Berkas

Komentar