Thermal Deformation Prediction in Reticles for Extreme Ultraviolet Lithography Based on a Measurement-Dependent Low-Order Model | PERPUSTAKAAN UNIVERSITAS KATOLIK PARAHYANGAN

Pencarian berdasarkan :

Pencarian terakhir:

Text

Thermal Deformation Prediction in Reticles for Extreme Ultraviolet Lithography Based on a Measurement-Dependent Low-Order Model

Bikcora, Can - Nama Orang; Weiland, Siep - Nama Orang; Coene, Wim M. J. - Nama Orang;

Tidak Tersedia Deskripsi

Ketersediaan

Barcode		Tipe Koleksi	Nomor Panggil	Lokasi	Status
art89409	null	Artikel		Gdg9-Lt3	Tersedia namun tidak untuk dipinjamkan - No Loan

Informasi Detail

Judul Seri: IEEE TRANSACTIONS ON SEMICONDUCTOR MANUFACTURING; Vol.27 No.1 February 2014
No. Panggil: -
Penerbit: : .,
Deskripsi Fisik: p.104-117
Bahasa: English
ISBN/ISSN: -
Klasifikasi: -
Tipe Isi: -
Tipe Media: -
Tipe Pembawa: -
Edisi: -
Subjek: -
Info Detail Spesifik: -
Pernyataan Tanggungjawab: Can Bikcora, Siep Weiland, Wim M. J. Coene

Versi lain/terkait

Tidak tersedia versi lain

Lampiran Berkas

Tidak Ada Data

Komentar

Anda harus masuk sebelum memberikan komentar